技术编号:1901039
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。1986年6月23日的日本专利JP61/163224(Sumitomo电气工业公司)公开了一种方法是在压力下将熔融铝渗入孔隙度为85~90%的陶瓷体中。此外,1985年5月30日的英国专利GB2148270(英国陶瓷研究协会)公开的方法是这样来生产金属陶瓷的,即在温度为700℃,压力为6.72千磅/英寸2的条件下将熔融铝渗入到孔隙度为39%的一种多孔的碳化硅陶瓷中。在1983年10月1日的捷克专利CS206132中还描述了一些其它金属陶瓷,它是通过对成分为...
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