技术编号:1908744
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开,其中石英坩埚内表面1mm深度内的微气泡体积密度(气泡体积/总体积×100%)低于0.0005%;该方法包括在石英坩埚熔制过程中通入氢气、氮气、氦气、氩气或其他惰性气体中的一种气体或几种混合气体,取代石英砂颗粒间残留的空气,对石英玻璃坩埚内表面再熔融精细化处理,去除气泡空乏层中包裹的微气泡,并且能够抑制残留的微气泡在坩埚高温使用过程中的膨胀现象。用此方法制备的石英坩埚能够长时间承受连续高温的特点,足可满足单晶厂家多次投料、拉制单晶的需求。专利说明...
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