技术编号：19128020
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。发明背景技术领域本发明涉及计量靶。此外，本发明还涉及表征晶片、掩模或CGH的形式的结构化元件的方法和装置。背景技术微光刻用于制造诸如集成电路或LCD的微结构部件。在包括照明装置和投射镜头的称为光刻曝光设备中实行微光刻工艺。在这种情况下，通过投射镜头将通过照明装置所照明的掩模(＝掩模母版)的像投射到涂有感光层(光刻胶)且在投射镜头的像平面中布置的基板(例如硅晶片)上，以便于将掩模结构转印至基板的感光涂层。在这种情况下，实际上需要监控图案化晶片的参数特征，例如CD值或者层厚度。特别地在多个光刻步骤中...
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