技术编号：19146343
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空装置领域，尤其涉及一种真空预清洁装置及其形成方法、真空预清洁装置的使用方法。背景技术光伏产业、半导体、液晶面板产业中经常用到真空预清洁装置来对待处理产品进行表面清洁，以提高待处理产品的表面清洁度，从而保证待处理产品功能的正常。为了保持真空预清洁装置良好的清洁能力，真空预清洁装置需要定期保养，真空预清洁装置中的组件需定时更换和清洁，避免影响真空预清洁装置腔体中的反应环境。然而，现有的对真空预清洁装置的保养方式还有待改善。发明内容本发明解决的技术问题是提供一种真空预清洁装置及其形成方法...
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