技术编号:19160783
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高真空设备技术领域,特别涉及一种蒸发源挡板。背景技术在oled蒸镀工艺中采用的小挡板(sourceshutter或smallshutter),它是蒸发源上部存在的一块不可或缺的挡板,经过加热源对装有有机材料的坩埚进行加热升温,当达到一定温度后,只有当小挡板打开,才会让有机材料蒸汽蒸发出来,被crystal(石英晶振片)传感器检测到后显示为蒸发源的蒸发速率。而小挡板都是直接采用金属挡板经过加工后便投入使用,在真空镀膜作业过程中,蒸发源小挡板需要不断地进行开合运动或是受到蒸发源高温对其的影...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。