技术编号:19161083
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种等离子体产生设备和一种包括该等离子体产生设备的气体处理设备。背景技术通常,用于产生用于处理有害气体(例如,全氟化合物、氯氟碳化物、二恶英等等)的等离子体的方法包括冲击、火花放电、核反应、电弧放电等等。对于电弧放电,可以通过将高dc电压施加到两个电极之间的空间而产生电弧。电弧包括电弧点,该电弧点定位在电极中的一者上。当能够产生等离子体的气体(诸如,惰性气体、氮气等等)穿过上文所描述的电弧并加热到相当高的温度时,气体被离子化。以这种方式,形成了各种反应粒子,并且产生了具有1000°c或...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。