技术编号：1916441
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，其特征在于将陶瓷坯体置于充满碳源气体的真空容器中，在大于或等于陶瓷烧结温度，真空度9-2-10-2MPa的条件下，进行渗碳处理，保温2-4小时后取出陶瓷制品，渗碳完毕。本发明的优点在于通过高纯度的碳源在高于陶瓷烧结温度的真空状态下，将碳源渗入到陶瓷坯体内，渗碳效果要由于一般的渗碳效果，而且操作简便。专利说明 [0001]本发明涉及到一种金属陶瓷性能改进的方法，具体涉及一种采用渗碳技术改善金属陶瓷某些方面性能的方法，属陶瓷，尤其适合碳化物基金属陶瓷制...
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