技术编号：19179789
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求于2018年05月10日向韩国知识产权局提交的申请号为10-2018-0053886的韩国专利申请的优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。本公开涉及半导体装置制造，更具体地，涉及清洁液体喷嘴、清洁设备和使用其制造半导体装置的方法。背景技术现代半导体装置具有高集成度。因此，这些装置具有精细图案、多层电路等。由于半导体装置制造可能导致在处理期间释放的颗粒污染图案，因此已经开发了用于去除这些污染颗粒的各种清洁工艺。这些清洁工艺可包括湿法清洁工艺和/或干法清洁工艺。特别地，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。