技术编号:1921116
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及涂覆侵蚀技术,特别涉及。 背景技术对于以氧化镁为主要成分的陶瓷材料的烧结,通常使用氧化铝、氧化镁、氧化锆、 珍珠岩、莫来石等材料制成的坩埚作为容器。但氧化铝坩埚、氧化锆陶瓷坩埚在高温下易吸附氧化镁烧结材料蒸发排出的水分而破裂、高纯度氧化镁坩埚市面上没有供应。一些以氧化镁为主要成分的特殊陶瓷材料的烧结,在高温环境下制作坩埚的材料因蒸发易对烧结物料带来一定程度的污染。发明内容本发明的目的是提供,既对氧化镁为主要成分的陶瓷材料在高温烧结过程中起到不受污...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。