技术编号:1922168
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种清洗方法,尤其涉及。 背景技术扩散炉是太阳电池生产过程中的关键设备之一,其用来对生产太阳电池的硅基板进行扩散工艺从而在硅基板表面形成P-N结,它的主要用途是对半导体进行掺杂,即在高温条件下将惨杂材料扩散入硅片,从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布,以便在半导体上建立起不同的电特性区域。扩散炉内的温度控制对扩散的质量有着重大影响, 因此,在工艺过程中对扩散炉内温度有严格的要求。扩散时一般是将硅片先置于石英舟中, 然后通过送片桨将装有硅片...
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