技术编号：19311876
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种阶跃低折射率al2o3薄膜的制备方法。背景技术薄膜的折射率是表征光学薄膜光学性质的一个极其重要的指标，光学薄膜的反射带带宽、透射带带宽由组成膜系的薄膜材料的折射率和中心波长共同决定。当中心波长一定的情况下，高低反射率薄膜0.01的折射率差将会引起几纳米甚至几十纳米反射带的红移/蓝移。al2o3薄膜具有良好的物理稳定性、化学稳定性、高熔点、高结晶温度、与半导体工艺良好的兼容性，因此在光学薄膜、半导体工业等领域具有广泛的应用，例如腔面膜、金属氧化物半导体场效应...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。