技术编号：19416655
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学工程领域，具体是涉及一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。背景技术受激辐射淬灭(sted)显微技术主要是通过使用一个空心的淬灭焦斑覆盖在衍射受限的激发焦斑上，使得焦斑外圈被激发的荧光分子在还没有发出荧光时以受激辐射的方式瞬间回到基态，而焦斑中心被激发的荧光分子正常发出的荧光被作为有效信号接收，从而获得远超衍射极限的分辨率。而基于受激辐射光淬灭荧光纳米显微镜超分辨原理的双光束超分辨激光加工技术使用一束高斯型的激发光束引发光聚合加工，同时引入特殊焦斑形状的抑制光束，使抑制光束曝光区...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。