技术编号：19416905
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路制造装备技术领域，特别涉及一种像差测量装置及方法。背景技术光刻机是一种应用于集成电路制造的装备，利用该装备包括但不限于：集成电路制造光刻装置、液晶面板光刻装置、光掩模刻印装置、mems(微电子机械系统)/moms(微光机系统)光刻装置、先进封装光刻装置、印刷电路板光刻装置及印刷电路板加工装置等。投影物镜畸变是影响光刻机成像质量的重要因素。投影物镜畸变不仅能造成物镜所成像的变形，同时会使曝光到硅片上的图形相对于其理想位置发生位移，从而引起套刻误差。现代集成电路一般由几十层电路组成...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。