技术编号：19419349
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于均匀地叠加激光辐射、尤其用于叠加多个激光二极管模块的泵浦激光辐射(pumplaserstrahlung)的光学系统，其中，所述多个激光二极管模块例如用在泵浦激光系统中。本发明还涉及一种激光系统、尤其借助二极管激光器进行泵浦的激光系统，该激光系统用于将连续激光辐射(cw-laserstrahlung)和脉冲激光辐射放大成高功率和/或高脉冲能量。背景技术激光系统(例如高功率固态激光器)需要耦合输入到基于放大的介质中的相应设计的泵浦功率。为了实现高的泵浦功率，可以将多个泵浦激光器的激...
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