技术编号:19496491
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及等离子处理技术领域,具体为低温等离子体平板式往复智能化处理设备及使用方法。背景技术大气压等离子体射流能够实现电极间的放电区域和工作区域在空间上的分离,同时能够将活性物质和带电粒子输运到被处理物体的表面并达到处理效果,因此对物体的尺寸以及形状没有特殊要求,非常适合于实际应用,在众多领域(材料、环境、生物医学等)有着广阔的应用前景。大气压射流等离子体中存在高能电子、离子、自由基以及激发态中性粒子等活性物质。在经过等离子体作用后,材料表面主要发生四种物理化学变化:产生自由基:等离子体中活性物...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。