技术编号:1950912
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及非接触法抛光,具体涉及一种等离子体加工装置。技术背景等离子体抛光技术是等离子体源与化学气相处理设备相结合的新技术,属 于非接触法抛光技术。其工作原理基于在等离子体作用下的化学反应,利用等 离子体与工件表层材料发生化学作用去除材料。采用这种方法可以进行大面积 平面抛光、局部抛光、非球面抛光等。采用此方法进行光学零件的抛光,可以 避免亚表面损伤层的出现,提高光学零件表面加工等级,实现高精密抛光。等离子体抛光技术中所使用的是等离子体加工装置,其主要...
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