技术编号：19555039
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及纳米压印领域，尤其是一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置。背景技术纳米压印技术相比于传统的光刻技术拥有成本低，产量高，工艺简单的优点，如今已经成为各大高校和研究机构的热门课题。其原理是通过纳米压印的方式在压印胶上复刻出与模板上的微结构互补的纳米微结构，然后再使用化学刻蚀等方式对复刻出的纳米微结构进行处理，最终制成具有纳米结构的半导体材料。目前，纳米压印技术可以分为三大类：热压印技术、紫外压印技术和微接触印刷技术，本实用新型主要采用热压印技术来制备超疏水微结构。热压印技术是：首先在衬...
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