技术编号:1969138
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微波电真空工艺和电真空材料工艺领域,尤其涉及一种氧化铝陶瓷的净化工艺。背景技术电真空陶瓷包括氧化物陶瓷、硅酸盐陶瓷、氮化物陶瓷等。氧化物陶瓷中又包括氧化铝(Al2O3)瓷、 氧化铍(BeO)瓷、氧化镁(MgO)瓷、氧化锆(ZrO2)瓷等。氧化物瓷的主要成分为单一氧化物结晶,结晶相纯度高,含玻璃相少。原材料纯度高,烧结温度也高,因此瓷的电、热及机械性能都较好,在电真空陶瓷中以氧化铝陶瓷的用量最多。根据Al2O3含量的不同,可分为=Al2O3含量在...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。