技术编号:19814305
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种薄膜技术领域的制备方法,具体涉及一种在钢基体上制备碳化钨过渡层-硅掺杂金刚石复合涂层的方法。背景技术金刚石薄膜具有优良的物理和化学性能,它具有硬度高,摩擦系数小,导热率高的优点,并且化学性质稳定,是良好的绝缘体,在掺杂b、n、si等元素后是一种优良的半导体材料。目前,cvd金刚石技术已经得到广泛应用,如工具领域的涂层模具、刀具以及耐磨器件,水处理电化学耐腐蚀阳极等。涂层附着力和表面光洁度是影响cvd金刚石涂层在耐磨减摩器件的应用中表现性能的主要因素。金刚石与基体材料热膨胀系数和晶格...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。