技术编号：1982367
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及平面基材镀膜，特别涉及一种自动循环等离子气相沉积系统。背景技术等离子增强化学气相沉积(PECVD)是在电源(包括射频电源、直流电源或交流电源等)接通的条件下通入相关气体，生成的薄膜沉积在基底上，可应用于半导体、太阳能、 显示器及电子应用的设备中。由于该工艺没有环境污染产生，没有化学污水排放，同时消耗功率低，效率较高，因此逐步被应用。但目前的等离子气相沉积技术一般只能应用于表面积较小的工件，不能适用于太阳能发电用玻璃等表面积较大的工件处理。发明内容...
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