技术编号:1985836
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明通常涉及石英(SiO2)玻璃的制造,更具体地说,涉及一种气泡含量低的厚壁SiO2的制造。背景技术 有时称作“熔凝石英”的SiO2玻璃被广泛地运用于各种应用中。在其是管状形式时,被用于半导体晶片处理。例如,所述管子被成形为用在半导体材料制造中所使用的高纯度容器,即在诸如熔融、区域精炼、扩散或者外延(epitaxy)的处理步骤中用于保持半导体材料。对这一应用和其它应用来说,无气泡且尽可能均匀的透明SiO2玻璃是优选的。透明SiO2玻璃的其它应用包括光学元...
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