技术编号:1986946
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及镀膜玻璃,尤其涉及一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品。背景技术磁控派射真空室能通过的玻璃厚度一般是19mm,如果超过19mm厚的玻璃,则不能进行镀膜,单片玻璃的厚度一般也就是19mm。对于一些有特殊要求的工程建筑,为了得到更加安全的玻璃,则要求用夹层玻璃,如果夹层后玻璃厚度不超过19mm,也可以在溅射室内进行镀膜。但是如果夹层玻璃厚度超过了 19mm,按常规的做法则没法对夹层玻璃进行镀膜。对于没有该技术之前,镀膜如果要生产双银低辐射夹层玻璃...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。