技术编号：1989520
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于功能材料领域,涉及在功能化的FTO/glass基板表面制备BiFehCrxO3薄膜的方法。背景技术BiFeO3具有铁电性和反铁磁性，并伴随弱的铁磁性，这极大的引起了人们研究兴趣。BiFeO3具有扭曲的钙钛矿结构，室温下同时具有铁电有序(TC=810°C )和G型反铁磁有序(TN=380°C )，是少数几种单相多铁材料之一。BiFeO3在信息存储、信息存储、图像显示等方面具有广泛的应用。但是，纯相BiFeO3存在着大漏导的问题，导致他无法获得饱和的...
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