技术编号：1991277
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种模具，特别是一种尺寸可调平面陶瓷靶材模具。背景技术成型是平面陶瓷靶材生产的必要过程。模压成型又以其成本低，速度快，适合规模生产成为目前平面陶瓷靶材成型的主要手段。模压成型需要使用到靶材成型模具，普通的平面陶瓷靶材模具由模框和上下模冲组成，模框是一体结构，尺寸固定不可以调节，一组模具仅适合生产一种尺寸的祀材。平面陶瓷靶材是用于磁控溅射设备的溅射镀膜源，不同的镀膜线对靶材的尺寸要 求不一样，且在靶材的使用过程中普遍存在拼接的现象(将尺寸较小的...
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