技术编号:1994895
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种玻璃,特别是一种离线可钢低辐射镀膜玻璃。背景技术现有普通离线低辐射镀膜玻璃由于膜系配置采用其他的材料,膜层耐侯性、耐酸碱性都较差,膜层质软,容易氧化,且很难实现异地加工。离线可钢低辐射镀膜玻璃,采用氮化硅Si3N4膜层作为保护层,其对氧气具有很低的扩散系数,有较好的稳定性,针孔密度非常低。磁控溅射沉积的氮化硅膜层致密、平整且硬度很高,对可动离子有非常强的阻挡能力,在1200°C时不发生氧化,有较好的抗蚀性,所以,使用Si3N4膜层作为离线...
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