技术编号：20012671
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求2017年7月24日递交的ep申请17182817.1的优先权，上述ep申请的全部内容以引用的方式并入本文中。本公开涉及确定周期性结构的边缘粗糙度参数的方法，以及可用于例如通过光刻技术进行器件的制造中的检测设备。本公开还涉及相关的目标、衬底、计算机程序及计算机程序产品。背景技术光刻设备是将所要图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备能够用于例如集成电路(1c)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(其替代地被称作掩模或掩模版)可用于产生将被形成在i...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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