技术编号:20031783
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及镀膜技术领域,更具体的说是涉及一种长条高真空阴极电弧靶装置。背景技术随着科学技术的快速发展,对材料表面改性技术的要求越来越高,传统单一的表面改性技术已越来越难以满足工业生产上的技术要求;合成化、集成化以及多功能化成为技术发展的趋势。近年来,一些表面改性复合技术不断问世并相继投入到产业中,并发挥着重要作用。例如磁控溅射技术与电弧离子镀技术的复合技术,兼容了磁控溅射技术可以沉积大面积和高均匀性的薄膜优点和离子镀技术制备高结合力薄膜的优点,提高了工艺实用性。再如多弧离子镀将多个弧源共同作用,...
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