技术编号:20034939
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种单晶硅片领域,具体是一种单晶硅片的清洗烘干装置。背景技术单晶硅是一种比较活泼的非金属元素,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等,单晶硅片在加工过程中需要经常进行清洗。现有的清洗设备有为独立的个体,需要在多个设备上进行不同方式的清洗,清洗效率低下,导致生产成本较高;传送设备用气缸的,在传送的过程中,稳定性和安全性都不够。发明内容本发明的目的在于提供一种单晶硅片的清洗烘干装置,以解决上述背景技术中提出的问题。为解决上述技...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。