技术编号：2011358
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种溅射靶、其制造方法以及透明导电膜。更具体地说， 本发明涉及一种减少稀有资源铟的使用量或不使用铟的溅射靶等。背景技术从显示性能、节能等观点来看，液晶显示器(LCD)和有机电致发光 (EL)显示器已经成为手机和移动信息终端(PDA)、计算机和便携式计 算机、电视等的显示器的主流。而用于这些设备的透明导电膜，则以铟锡 氧化物(以下称为"ITO")膜为主流。然而，由于ITO膜采用大量(一般 占到90质量％左右)的铟，而铟是稀有资源，存在供应不稳定的问...
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