技术编号：20200785
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学器件领域，具体涉及一种宽光谱抗反射增透结构及其制备工艺及光栅。背景技术随着光学玻璃在镜头、发光二极管、有机太阳能电池等光学器件和光学系统的广泛应用，其光学特性对器件和系统的性能影响越来越大，但是由于光学玻璃和空气界面处存在阻抗不匹配问题，因此大量入射光在界面处被反射而损失。因此，为了减少光学损失，为光学玻璃附加一种抗反射特性尤其重要。目前较为常用的方法是在光学玻璃表面制备一层抗反射光学薄膜，但是这种薄膜的材料选择范围有限，且仅具有单一的折射率，因此当薄膜厚度确定后仅在有限波段范围内...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。