技术编号：20614473
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及曝光装置以及物品制造方法，涉及例如在底板或者基板相对于投影光学系统的像面倾斜的状态下对基板进行曝光的曝光装置、以及使用该曝光装置来制造物品的物品制造方法。背景技术作为使曝光装置中的焦点深度扩大的手法，已知使掩模的图案成像于光轴方向的不同的位置的flex(focuslatitudeenhancementexposure，聚焦范围增强曝光)法。当在扫描曝光装置中实施基于flex法的曝光时，在基板或者掩模相对于投影光学系统的像面倾斜的状态下被扫描驱动。在基于flex法的曝光中，为了在投影光学...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。