技术编号：20682350
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例涉及椭偏测量技术领域，尤其涉及一种光谱椭偏测量厚度不均匀源退偏效应修正建模方法及装置。背景技术椭偏测量法是一种利用光的偏振特性进行纳米参数测量的方法，其测量过程简单，快速，可以有效表征薄膜材料的几何和光学参数，具有快速、准确和无损等优点，是柔性电子、平板显示、太阳能电池等产业不可或缺的技术手段。其基本原理是将一束已知偏振态的光束入射到待测样品表面，通过样品的反射或者透射前后的偏振态的改变(振幅比和相位差)来获取薄膜的光学常数和厚度。沿着薄膜衬底的不均匀区域是在实践中经常遇到的缺陷。例...
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