技术编号:20700650
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及物理气相沉积、化学气相沉积等真空镀膜技术领域,尤其涉及一种提高真空镀膜气氛均匀性的辉光区气路布置方法以及气路装置。背景技术真空镀膜技术包括物理气相沉积(pvd)和化学气相沉积(cvd),已经在很多领域得到广泛应用,如太阳能光伏、光热、led、磁存储材料制备等,近年尤甚,气氛均匀性是影响大面积薄膜材料均匀性的关键因素之一,保证大范围的气氛均匀性,才能保证大面积薄膜材料性能,以及规模化生产效率。针对气氛均匀性,人们在气路布置方面也进行了大量的研究,现有主流气路布置方法有单管法、套管混气法以...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。