技术编号：20848783
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于光学技术领域，更具体的说特别涉及一种下光源曝光装置。背景技术光刻机在现代工业生产过程中应用非常广泛，用以将图文信号转移到需要的材料上，从7nm的半导体芯片制造到10um左右的枪瞄分划板，tft显示屏，led芯片制造等各种高低端领域都要应用到不同等级的光刻机，其品牌、样式繁多。然而传统的曝光机都是立式的，即紫外光光源从上往下照射，曝光时，掩模版在上面，基片在下面，也有一部分是从前往后及水平方向上的照射。其接触方式主要有三种：(1)软接触：把基片通过托盘吸附住(类似于匀胶机的基片放置方...
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