技术编号:20875416
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及原子层层积装置,尤其,涉及一种能够对于适宜制造显示器元件等的大面积基板维持优秀的生产量,并能够执行稳定性的原子层沉积工艺的大面积基板用水平型原子层层积装置。背景技术一般而言,原子层沉积工艺作为在半导体、太阳电池、oled等精密制造领域执行沉积薄膜的工艺而被广泛使用。原子层沉积工艺是交替供应气源(反应气体)和净化气体,而沉积以原子层单位的薄膜的方法,由此形成的薄膜具有高纵横比,在低压下也能够均匀,电性物理特性优秀。适用于以往的半导体工艺的原子层沉积装置大部分是用于在较小的大小的晶圆等沉积...
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