技术编号：20942768
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光直写式曝光机技术领域，具体是一种内层板曝光机及其标记方法。背景技术激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术，直写式曝光技术产能高，对位精度高。在半导体及pcb生产领域有着非常重要的作用。目前市场上直写曝光多以单台面或双台面曝光机为主。单台面曝光产能较慢，每一片板曝光需要完成上板，对准，曝光，下板等工序，整个流程时间较长。双台面曝光机两个台面要分开曝光，效率也不是很高，并且在生产超大尺寸板时，效率特别低。而曝光产能又是客...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。