技术编号:21186741
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高分子材料领域,特别涉及一种酚醛树脂及其制备方法、光刻胶。背景技术光致抗蚀剂,又称光刻胶,是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,根据光照后溶解度变化的不同分为正性光刻胶和负性光刻胶,其至少包括:成膜树脂、感光化合物以及溶剂。酚醛树脂作为常用的碱溶性成膜树脂被广泛应用于正性光刻胶中,其直接影响着光刻胶的性能,特别是分辨率。所以,提供一种适用于正性光刻胶的酚醛树脂是十分必要的。现有技术提供了一种线性酚醛树脂,其由酚类化合物、醛类化合物和/或乙烯基化合物缩聚而成。然而,发明人发现,利用现...
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