技术编号:21771455
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2019年1月7日提交的第10-2019-0001874号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。本公开涉及一种能够精确沉积沉积材料的掩模组件。背景技术显示装置可以包括多个像素。多个像素可以使用沉积材料通过沉积工艺形成显示区域。例如,可以通过使用精细金属掩模(fmm)在基底上沉积有机材料以形成具有期望图案的薄膜。支撑条可以定位在掩模组件与掩模之间,以形成沉积材料未沉积在其中的非沉积区域。一些示例实施例可以能够防止掩模在沉积工艺期间被抬升或变形。在本背景技...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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