技术编号：21788070
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。发明领域本发明涉及由特定的磺酸、草酸和溶剂组分组成的低pka去除剂溶液的组合物，所述溶剂组分由特定的有机溶剂、这些有机溶剂的混合物、或这些有机溶剂与有机溶剂和水的混合物的混合物组成。本发明还涉及去除剂溶液，其除了含有以上组分，还包含表面活性剂组分。这些去除剂溶液显示出从基底上干净地去除了光致抗蚀剂图案，表明去除的抗蚀剂图案完全溶解而没有颗粒形成或沉积。此外，当基底是诸如铜的金属时，额外地，去除图案化的抗蚀剂不会造成金属基底的显著腐蚀。背景本发明涉及化学剥离剂组合物，其使用新型的去除剂组合物去除交...
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