技术编号:218671
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本发明公开了,筛选出建立喜树无性系的最优培养基配方。结果表明茎段的诱导培养基以MS+0.1mg/L?KT+4mg/L2,4-D为佳;增殖培养以B5+0.5mg/L?KT+1.0mg/LNAA+0.5mg/L2,4-D最优;叶片表现出较差的诱导率。将愈伤在红光、绿光、蓝光、红蓝光、白光条件下增殖,通过分析单位愈伤的增长量,得到红光、绿光对喜树愈伤的生长有促进作用,蓝光对愈伤的生长有抑制作用,白光、红蓝光的作用不明显,其中以绿光的促进作用最显著。专利说明技术领域[0001]本发明属于植物培育技术领域,涉及。背景...
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