技术编号:22074896
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。【技术领域】本发明涉及光刻领域,尤其涉及一种掩模边界检测方法、计算机可读存储介质及系统。【背景技术】光刻技术是用于制造超大规模集成电路的核心技术之一,光刻系统采用光源照射掩模版,通过投影物镜将掩模上的集成电路版图成像到光刻胶上。计算光刻使用计算机来模拟、仿真光刻的光学和化学过程,从理论上探索增大光刻分辨率和工艺窗口的途径,指导工艺参数的优化。随着技术节点不断缩减,光刻工艺分辨率的提高依赖与分辨率增强技术,包括优化光照条件、光学临近效应修正和添加亚分辨率辅助图形。从32nm技术节点以下,计算光刻已...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。