技术编号：22309897
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米压印技术领域，尤其是涉及一种纳米图案的拼接方法和拼接设备。背景技术压印技术是一种光刻技术之外的重要薄膜图案化技术，主要包括热压印、紫外压印和微接触压印。其图案化原理可以描述为：在热或者紫外照射下将预先制作有图案的压印母模板压在压印胶上，再通过脱模、刻蚀多余胶、刻蚀和去胶等工艺，制作与压印母模板互补的图案。但是，由于纳米结构太小，纳米压印用的压印母模板只能通过ebl(即electronbeamlithography的缩写，电子束曝光系统)等技术制作，由于制作成本太高，通常情况下，eb...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。