技术编号:22352855
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及冷凝处理装置技术领域,具体为一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置。背景技术随着社会的不断发展,工业的不断进步,半导体机台是生产半导体材料的一种机器,半导体是指常温情况导电性能介于导体与绝缘体之间的一种材料,具有广泛的用途,在半导体生产中,常常需要硅等气体进行冷凝,随后进行生产。但是现有的半导体机台附属产物循环冷凝处理装置只是简单的进行冷凝作用,气体中含有的一些空气灰尘会随之一起冷凝,导致实验的精度有所欠缺,使用较为不便,因此亟需一种半导体机台附属产物循环冷凝处理装置来解决上述问题...
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