技术编号:22556408
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及臭氧产生装置和臭氧产生方法。背景技术以氧气作为原料产生臭氧气体的臭氧产生装置被广泛用于半导体的制造工艺等。作为这种臭氧产生装置,专利文献1公开了包括向氧气中赋予水分的加湿器的臭氧产生装置。具体而言,在臭氧产生装置中,在氧气源与臭氧发生器之间串联地连接有加湿器。从氧气源2供给的氧气在加湿器4中被赋予极其微量的水分,之后被供给至臭氧发生器9。由此,供给至臭氧发生器9的氧气中的水分量被调整至目标范围(例如0.05~40ppm)。如此,通过向氧气中赋予极其微量的水分,抑制所生成的臭氧气体的臭氧...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。