技术编号：22626746
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请案的交叉参考本申请案主张2018年3月13日申请且被指定为第62/642,161号美国申请案的临时专利申请案的优先权，所述申请案的揭示内容特此以引用方式并入。本发明涉及确定光学检验模式。背景技术半导体制造业的发展对良率管理且尤其对计量及检验系统提出更高要求。临界尺寸继续缩小，但行业需要缩短用于实现高良率、高价值生产的时间。最小化从检测良率问题到修复它的总时间确定半导体制造商的投资回报率。制造半导体装置(例如逻辑及存储器装置)通常包含使用大量制造工艺处理半导体晶片以形成半导体装置的各种特征...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。