技术编号:22626860
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种导电膜及其制造方法、导电体、抗蚀剂图形的形成方法及层叠体。本申请基于2018年3月15日在日本申请的特愿2018-048383号主张优先权,在此引用其内容。背景技术使用电子束或离子束等带电粒子束的图形形成技术作为光刻的下一代技术而受到期待。在使用带电粒子束时,对于提高生产率重要的是提高抗蚀剂的灵敏度。因此,使用高灵敏度的化学放大型抗蚀剂成为主流,所述高灵敏度的化学放大型抗蚀剂在曝光部分或带电粒子束被照射的部分产生酸,接着通过被称为曝光后烘烤(peb)处理的热处理来加速交联反应或分解...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。