技术编号:23101103
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及光脉冲展宽器、激光装置以及电子器件的制造方法。背景技术激光退火装置是对在玻璃基板上形成的无定形(非晶)硅膜照射从准分子激光器等激光装置输出的具有紫外线区域的波长的脉冲激光,使其改性为多晶硅膜的装置。通过将非晶硅膜改性为多晶硅膜,能够制作tft(薄膜晶体管)。该tft用于比较大的液晶显示器。在先技术文献专利文献专利文献1:日本特开2005-148549号公报专利文献2:日本特开2002-075831号公报专利文献3:美国专利申请公开第2007/0280308号说明书发明内容本公开的一个方...
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