技术编号:2310477
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜,更具体地说,涉及一种用于PECVD设备的自动上下料装置。 背景技术在硅太阳电池的制造工艺过程中,通常需要采用薄膜沉积工艺进行硅片的镀膜,例如可米用等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)工艺对硅片进行氮化硅的真空镀膜,使在硅片表面形成防反射层。PECVD(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition)是等离子体增强化学气...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。