技术编号：24022793
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及气体处理领域，特别是一种高纯度的电子级一氧化氮生产装置。背景技术一氧化氮是一种广泛应用于医药、电子、科研、环保、精细化工等领域的特种气体，在电子半导体行业是一种十分重要的气体，其主要用于硅的氧化膜形成、氧化、化学气相淀积。随着电子半导体工业快速发展，尤其是近些年电子半导体生产技术的提高和制程、工艺的改进，集成电路差不多每三年就更新一代；大规模集成电路和计算机的大量生产和使用，光纤通信、数字化通信、卫星通信技术的兴起，使电子半导体工业成为推动科技发...
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