技术编号:2428787
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜技术,具体涉及一种ITO镀膜板及其制备方法。背景技术ITO(铟锡氧化物)膜具有优良的导电性和可见光透射率,是一种重要的透明导电膜,在光电器件中得到了广泛应用。制备ITO膜有多种方法。目前一般采用的是直流磁控溅射法,另外也可以采用射频溅射法,不过后者对设备要求严格,成本较高。ITO膜所具有的性能使它在平板显示器件中得到了广泛应用,得到低方块电阻和高透光率的ITO镀膜一直为业界所追求。目前制备低方阻ITO膜一般采用提高基板温度、增加薄膜厚度的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。